（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201510066846.X （22）申请日 2009.12.24
（71）申请人 联华电子股份有限公司
地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园区
（10）申请公布号 CN104624545A
（43）申请公布日 2015.05.20
（72）发明人 蔡新庭;余政宏;刘金光;李明星;庄玮宏;童圭璋;吕彦逸;王进钦 （74）专利代理机构 北京市柳沈律师事务所
代理人 陈小雯
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
晶片清洗装置及晶片清洗方式
（57）摘要
本发明公开一种晶片清洗装置及晶片清洗
方式。该晶片清洗装置，包含：一平台，用以承载一晶片，前述的晶片具有一待洗表面、一第一喷嘴设于该晶片的上方，第一喷嘴与晶片的待洗表面之间具有一第一高度以及一第二喷嘴设于晶片的上方，第二喷嘴与晶片的待洗表面之间具有一第二高度，其中第一高度小于第二高度。
法律状态
法律状态公告日
2015-05-20 2015-05-20 2015-06-17 2015-06-17 2017-12-08
公开 公开
法律状态信息
公开 公开
法律状态
实质审查的生效 实质审查的生效
发明专利申请公布后的驳回
实质审查的生效 实质审查的生效
发明专利申请公布后的驳回
权利要求说明书
晶片清洗装置及晶片清洗方式的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
晶片清洗装置及晶片清洗方式的说明书内容是....请下载后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容