专利名称：用于校准位置测量设备的方法和校准掩模专利类型：发明专利
发明人：诺伯特.克威恩,约琴.赫茨勒申请号：CN201080018981.2申请日：20100410公开号：CN102414615A公开日：20120411
摘要：一种校准用于光刻掩模(12)上的测量结构(14)的位置测量的设备(10)的方法，包括以下步骤：通过利用干涉测量确定衍射结构(42)相对于彼此的位置，从而验证包括布置在其上的衍射结构(42)的校准掩模(40)合格；利用所述设备，确定布置在所述校准掩模(40)上的测量结构(14)相对于彼此的位置；以及通过针对所述测量结构(14)所确定的位置以及针对所述衍射结构(42)所确定的位置，校准所述设备(10)。
申请人：卡尔蔡司SMS有限责任公司
地址：德国耶拿
国籍：DE
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：邱军
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